NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统适用于沉积高质量的SiO2、Si3N4、DLC薄膜，具备10-7 Torr的高真空度和多种等离子源选择，支持表面改性、清洗、聚合等多种应用。该系统具备RF射频偏压、加热样品台和气体管路加热等功能，覆盖广泛工艺参数需求，并提供全面 ...

SyskeyPECVD系统支持SiO₂、Si₃N₄等薄膜沉积，适配8英寸基片，具备优异均匀性（±5%）与多气体配置，可实现多层薄膜沉积。系统提供全自动操作、可选负载锁与等离子自清洁功能，结构紧凑，适用于科研与小批量生产，兼具高可靠性和工艺可重复性。 Syskey ...

光伏电池生产过程中产生的废气主要来源于多个工艺环节。在硅片清洗环节，使用氢氟酸、硝酸等酸性溶液会产生酸性废气；扩散工序中磷扩散使用的POCl3会产生含磷废气；刻蚀工艺中使用的CF4、SF6等气体以及产生的SiF4等副产物；PECVD工序中使用的硅烷、氨气等 ...